大きな分子量を有する高分子を超薄膜化させる方法は、過去２０年においてさまざまな試みがなされてきた。昇華性を有する低分子材料や蒸着法が可能な物質とは異なり、清浄な超高真空中で高分子超薄膜を作成する事は困難である。そこで現実的には希薄な溶液から塗布する方法が広く行われている。希薄な高分子溶液中へ基板を浸漬させ、自己吸着によって単分子相当の超薄膜を形成させる方法、また伝統的なラングミュアーブロジェット(LB)法によって積層膜を形成させることも可能である。