Surface Modification Using Highly Charged ions
多価イオンを用いた表面改質

Shengjin Liu, Makoto Sakurai, Ken Asakura, Naoyuki Iida, Masahide Tona, Toshifumi Terui

Abstract

Ar11+の多価イオンを固体表面に照射しSEM、AFMを用いて照射領域を調べた。照射量は10^14/cm^2である。SEM観察において、Siの表面ではSEM加速電圧が1.0kV以上で照射領域が暗く、非照射領域が明くコントラストのついた像が得られた。HOPGでは0.5kV以下にしないと良いコントラストの像は得られなかった。1価のイオンを照射した場合、同様のコントラスト像を得るためには10^15~16/cm^2の照射が必要であった。これは多価イオンが1価イオンに比べて100倍効果があることを意味している。これらの効果はAFM観察でも確認された。多価イオンは1価イオンと比較して表面改質効果が増強されていることがわかる。


doi:10.1063/1.3548367