第064回ＫＡＲＣコロキウムのご案内
第064回ＫＡＲＣコロキウムは終了しました。ご参加ありがとうございました。
| 開催日時 | 8月2日(火) 13:30~14:30 |
| 開催場所 | KARC 第2研究棟 3階 中会議室 |
| 講演 | 「陽極化成アルミナによるナノ構造の自己組織形成およびLSI微細配線技術への銅めっき技術」 |
| 講演者 | 新宮原正三教授 (関西大学 工学部機械工学科) |
| 講演概要 | アルミニウムの陽極化成処理において、ある一定電圧条件下では ナノホール二次元配列が自己組織的に形成される。 Si基板上に形成したナノホール配列に関して、ナノ磁性体やナノチューブの高密度二 次元配列形成と高機能化に関しての最近の研究成果を報告する。LSI多層配線は既に最小線幅が100ｎｍをきる時代に突入し、また開発レベルでは50nm を切ろうとしており、真に究極のナノテク技術となっている。金属配線材としてめっ き銅配線が1998年より量産に導入されたが、これはめっき技術で配線溝への埋め込み 特性が優れていたからである。電解めっき埋め込み技術における添加剤の効果、およ び最近我々が見出した無電解ボトムアップめっきによる添加剤の効果、などに関し て、比較および概説を行う予定である。 |
| 使用言語 | 日本語 |
| 参加費 | 無料 |
| 担当者 | 情報通信研究機構 関西先端研究センター ナノ機構グループ 鈴木 仁 |